（本报讯）為了要推動我國半導體產業發展，國家實驗研究院儀器科技研究中心成立「原子層沉積聯合實驗室」服務平台，並與台積電簽訂合作協議，邀請國內學界及供應商共同研究「原子層沉積製程設備」與材料開發，合作推動台灣半導體產業發展。
國研院指出，「原子層沉積技術」由於具有極佳的薄膜成長厚度控制性、階梯覆蓋性與大面積均勻性，已成為半導體產業的一項主流技術，而2015年台灣在ALD設備及原材料的需求，預估將達到77億元的產值，但國內半導體廠必須仰賴國外的設備商提供製程設備及前驅物材料，造成業者在成本上的負擔及技術上的限制，更無法掌控未來技術的發展藍圖。
